VeTek Semiconductor is een toonaangevende fabrikant en innovator van Solid SiC Etching Focusseringsringen in China. We zijn al vele jaren gespecialiseerd in SiC-materiaal. Solid SiC wordt gekozen als focusseringsringmateriaal vanwege de uitstekende thermochemische stabiliteit, hoge mechanische sterkte en weerstand tegen plasma erosie. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.
U kunt er zeker van zijn dat u Solid SiC Etching Focusseerring in onze fabriek koopt. De revolutionaire technologie van VeTek Semiconductor maakt de productie mogelijk van Solid SiC Etching Focusing Ring, een ultrazuiver siliciumcarbidemateriaal dat is ontstaan door het proces van chemische dampafzetting.
Vaste SiC-etsfocusring wordt gebruikt in halfgeleiderproductieprocessen, met name in plasma-etssystemen. De massieve SiC-etsfocusring is een cruciaal onderdeel dat helpt bij het nauwkeurig en gecontroleerd etsen van siliciumcarbide (SiC)-wafels.
1. Het plasma focusseren: De massieve SiC-etsfocusring helpt het plasma rond de wafer te vormen en te concentreren, waardoor het etsproces uniform en efficiënt plaatsvindt. Het helpt het plasma op te sluiten tot het gewenste gebied, waardoor etsen of schade aan de omliggende gebieden wordt voorkomen.
2. Bescherming van de kamerwanden: De scherpstelring fungeert als een barrière tussen het plasma en de kamerwanden, waardoor direct contact en mogelijke schade wordt voorkomen. SiC is zeer goed bestand tegen plasma-erosie en biedt uitstekende bescherming voor de kamerwanden.
3. Temperatuurregeling: de focusring helpt bij het handhaven van een uniforme temperatuurverdeling over de wafer tijdens het etsproces. Het helpt de warmte af te voeren en voorkomt plaatselijke oververhitting of thermische gradiënten die de etsresultaten kunnen beïnvloeden.
Voor focusringen wordt gekozen voor massief SiC vanwege de uitstekende thermische en chemische stabiliteit, hoge mechanische sterkte en weerstand tegen plasma-erosie. Deze eigenschappen maken SiC een geschikt materiaal voor de zware en veeleisende omstandigheden in plasma-etssystemen.
Het is vermeldenswaard dat het ontwerp en de specificaties van focusringen kunnen variëren, afhankelijk van het specifieke plasma-etssysteem en de procesvereisten. VeTek Semiconductor optimaliseert de vorm, afmetingen en oppervlaktekarakteristieken van focusringen om optimale etsprestaties en een lange levensduur te garanderen. Solid SiC wordt veel gebruikt voor waferdragers, susceptoren, dummywafer, geleidingsringen, onderdelen voor het etsproces, CVD-proces, enz.
Fysische eigenschappen van vast SiC | |||
Dikte | 3.21 | g/cm3 | |
Elektriciteitsweerstand | 102 | Ω/cm | |
Buigsterkte | 590 | MPa | (6000kgf/cm2) |
Young-modulus | 450 | GPa | (6000kgf/mm2) |
Vickers-hardheid | 26 | GPa | (2650kgf/mm2) |
CTE (RT-1000℃) | 4.0 | x10-6/K | |
Thermische geleidbaarheid (RT) | 250 | W/mK |