Massieve SiC-ets focusring
  • Massieve SiC-ets focusringMassieve SiC-ets focusring
  • Massieve SiC-ets focusringMassieve SiC-ets focusring
  • Massieve SiC-ets focusringMassieve SiC-ets focusring

Massieve SiC-ets focusring

VeTek Semiconductor is een toonaangevende fabrikant en innovator van Solid SiC Etching Focusseringsringen in China. We zijn al vele jaren gespecialiseerd in SiC-materiaal. Solid SiC wordt gekozen als focusseringsringmateriaal vanwege de uitstekende thermochemische stabiliteit, hoge mechanische sterkte en weerstand tegen plasma erosie. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.

Stuur onderzoek

Productomschrijving

U kunt er zeker van zijn dat u Solid SiC Etching Focusseerring in onze fabriek koopt. De revolutionaire technologie van VeTek Semiconductor maakt de productie mogelijk van Solid SiC Etching Focusing Ring, een ultrazuiver siliciumcarbidemateriaal dat is ontstaan ​​door het proces van chemische dampafzetting.

Vaste SiC-etsfocusring wordt gebruikt in halfgeleiderproductieprocessen, met name in plasma-etssystemen. De massieve SiC-etsfocusring is een cruciaal onderdeel dat helpt bij het nauwkeurig en gecontroleerd etsen van siliciumcarbide (SiC)-wafels.


Tijdens het plasma-etsproces speelt de focusring meerdere rollen:

1. Het plasma focusseren: De massieve SiC-etsfocusring helpt het plasma rond de wafer te vormen en te concentreren, waardoor het etsproces uniform en efficiënt plaatsvindt. Het helpt het plasma op te sluiten tot het gewenste gebied, waardoor etsen of schade aan de omliggende gebieden wordt voorkomen.

2. Bescherming van de kamerwanden: De scherpstelring fungeert als een barrière tussen het plasma en de kamerwanden, waardoor direct contact en mogelijke schade wordt voorkomen. SiC is zeer goed bestand tegen plasma-erosie en biedt uitstekende bescherming voor de kamerwanden.

3. Temperatuurregeling: de focusring helpt bij het handhaven van een uniforme temperatuurverdeling over de wafer tijdens het etsproces. Het helpt de warmte af te voeren en voorkomt plaatselijke oververhitting of thermische gradiënten die de etsresultaten kunnen beïnvloeden.

Voor focusringen wordt gekozen voor massief SiC vanwege de uitstekende thermische en chemische stabiliteit, hoge mechanische sterkte en weerstand tegen plasma-erosie. Deze eigenschappen maken SiC een geschikt materiaal voor de zware en veeleisende omstandigheden in plasma-etssystemen.

Het is vermeldenswaard dat het ontwerp en de specificaties van focusringen kunnen variëren, afhankelijk van het specifieke plasma-etssysteem en de procesvereisten. VeTek Semiconductor optimaliseert de vorm, afmetingen en oppervlaktekarakteristieken van focusringen om optimale etsprestaties en een lange levensduur te garanderen. Solid SiC wordt veel gebruikt voor waferdragers, susceptoren, dummywafer, geleidingsringen, onderdelen voor het etsproces, CVD-proces, enz.


Productparameter van de massieve SiC-etsfocusring

Fysische eigenschappen van vast SiC
Dikte 3.21 g/cm3
Elektriciteitsweerstand 102 Ω/cm
Buigsterkte 590 MPa (6000kgf/cm2)
Young-modulus 450 GPa (6000kgf/mm2)
Vickers-hardheid 26 GPa (2650kgf/mm2)
CTE (RT-1000℃) 4.0 x10-6/K
Thermische geleidbaarheid (RT) 250 W/mK


VeTek halfgeleiderproductiewinkel


Hottags: Solide SiC-ets-focusring, China, fabrikant, leverancier, fabriek, aangepast, kopen, geavanceerd, duurzaam, gemaakt in China
Gerelateerde categorie
Stuur onderzoek
Stel gerust uw vraag via onderstaand formulier. Wij zullen u binnen 24 uur antwoorden.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept