Chemisch dampafzettingsproces Vaste SiC-randring

VeTek Semiconductor is een toonaangevende fabrikant en innovator van massieve SiC-randringen met chemische dampdepositieprocessen in China. We zijn al vele jaren gespecialiseerd in halfgeleidermateriaal. VeTek Semiconductor massieve SiC-randringen bieden verbeterde etsuniformiteit en nauwkeurige waferpositionering bij gebruik met een elektrostatische spantang , waardoor consistente en betrouwbare etsresultaten worden gegarandeerd. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.

Stuur onderzoek

Productomschrijving

VeTek Semiconductor chemisch dampdepositieproces Solid SiC Edge Ring is een geavanceerde oplossing die speciaal is ontworpen voor droge etsprocessen en superieure prestaties en betrouwbaarheid biedt. Wij willen u graag een hoge kwaliteit chemische dampafzettingsproces bieden, massieve SiC-randring.

Sollicitatie:

Het chemische dampafzettingsproces Solid SiC Edge Ring wordt gebruikt in droge etstoepassingen om de procescontrole te verbeteren en de etsresultaten te optimaliseren. Het speelt een cruciale rol bij het sturen en beperken van de plasma-energie tijdens het etsproces, waardoor een nauwkeurige en uniforme materiaalverwijdering wordt gegarandeerd. Onze scherpstelring is compatibel met een breed scala aan droogetssystemen en is geschikt voor verschillende etsprocessen in verschillende industrieën.

Materiaalvergelijking:

CVD-proces massieve SiC-randring:

● Materiaal: De scherpstelring is vervaardigd uit massief SiC, een zeer zuiver en krachtig keramisch materiaal. Het wordt vervaardigd met behulp van methoden zoals sinteren op hoge temperatuur of het compacteren van SiC-poeders. Het solide SiC-materiaal biedt uitzonderlijke duurzaamheid, weerstand tegen hoge temperaturen en uitstekende mechanische eigenschappen.

● Voordelen: De cvd sic-ring biedt uitstekende thermische stabiliteit en behoudt zijn structurele integriteit, zelfs onder hoge temperaturen die voorkomen bij droge etsprocessen. De hoge hardheid zorgt voor weerstand tegen mechanische belasting en slijtage, wat leidt tot een langere levensduur. Bovendien vertoont vast SiC chemische inertheid, waardoor het wordt beschermd tegen corrosie en zijn prestaties in de loop van de tijd behouden blijven.

CVD SiC-coating:

● Materiaal: CVD SiC-coating is een dunne filmafzetting van SiC met behulp van chemische dampafzettingstechnieken (CVD). De coating wordt aangebracht op een substraatmateriaal, zoals grafiet of silicium, om SiC-eigenschappen aan het oppervlak te geven.

● Vergelijking: Hoewel CVD SiC-coatings enkele voordelen bieden, zoals conforme afzetting op complexe vormen en afstembare filmeigenschappen, komen ze mogelijk niet overeen met de robuustheid en prestaties van massief SiC. De laagdikte, kristallijne structuur en oppervlakteruwheid kunnen variëren op basis van de CVD-procesparameters, wat mogelijk invloed heeft op de duurzaamheid en algehele prestaties van de coating.

Samenvattend is de massieve SiC-focusring van VeTek Semiconductor een uitzonderlijke keuze voor droge etstoepassingen. Het solide SiC-materiaal zorgt voor hoge temperatuurbestendigheid, uitstekende hardheid en chemische inertie, waardoor het een betrouwbare en duurzame oplossing is. Terwijl CVD SiC-coating flexibiliteit biedt bij het aanbrengen, blinkt de cvd sic-ring uit in het leveren van ongeëvenaarde duurzaamheid en prestaties die vereist zijn voor veeleisende droge etsprocessen.

Fysische eigenschappen van vast SiC

Fysische eigenschappen van vast SiC
Dikte	3.21	g/cm³
Elektriciteitsweerstand	102	Ω/cm
Buigsterkte	590	MPa	(6000kgf/cm²)
Young-modulus	450	GPa	(6000 kgf/mm²)
Vickers-hardheid	26	GPa	(2650kgf/mm²)
CTE (RT-1000℃)	4.0	x10^-6/K
Thermische geleidbaarheid (RT)	250	W/mK

VeTek Semiconductor CVD-proces Productiewerkplaats voor massieve SiC-randringen

CVD Process Solid SiC Ring Production Shop

Hottags: Chemisch dampafzettingsproces Vaste SiC-randring, China, fabrikant, leverancier, fabriek, aangepast, kopen, geavanceerd, duurzaam, gemaakt in China

Productlabel

Gerelateerde categorie