VeTek Semiconductor Solid Silicon Carbide is een belangrijk keramisch onderdeel in plasma-etsapparatuur, vast siliciumcarbide (CVD-siliciumcarbide) onderdelen in de etsapparatuur omvattenscherpstelringen, gasdouchekop, bak, randringen, etc. Vanwege de lage reactiviteit en geleidbaarheid van vast siliciumcarbide (CVD-siliciumcarbide) met chloor- en fluorhoudende etsgassen, is het een ideaal materiaal voor plasma-etsapparatuur, focusringen en andere componenten.
De focusring is bijvoorbeeld een belangrijk onderdeel dat buiten de wafer wordt geplaatst en in direct contact staat met de wafer, door een spanning op de ring aan te leggen om het plasma dat door de ring gaat te focusseren, waardoor het plasma op de wafer wordt gefocusseerd om de uniformiteit van het beeld te verbeteren. verwerking. De traditionele scherpstelring is gemaakt van silicium ofkwartsGeleidend silicium als gebruikelijk focusringmateriaal, het ligt bijna dicht bij de geleidbaarheid van siliciumwafels, maar het tekort is een slechte etsweerstand in fluorhoudend plasma, materialen voor etsmachineonderdelen die vaak gedurende een bepaalde periode worden gebruikt, zullen er ernstige zijn corrosiefenomeen, waardoor de productie-efficiëntie ernstig wordt verminderd.
SOlijd SiC focusringWerkingsprincipe:
Vergelijking van op Si gebaseerde scherpstelring en CVD SiC scherpstelring:
Vergelijking van op Si gebaseerde scherpstelring en CVD SiC scherpstelring | ||
Item | En | CVD SiC |
Dichtheid (g/cm3) | 2.33 | 3.21 |
Bandafstand (eV) | 1.12 | 2.3 |
Thermische geleidbaarheid (W/cm℃) | 1.5 | 5 |
CTE (x10-6/℃) | 2.6 | 4 |
Elasticiteitsmodulus (GPa) | 150 | 440 |
Hardheid (GPa) | 11.4 | 24.5 |
Weerstand tegen slijtage en corrosie | Arm | Uitstekend |
VeTek Semiconductor biedt geavanceerde onderdelen van massief siliciumcarbide (CVD-siliciumcarbide), zoals SiC-focusseringsringen voor halfgeleiderapparatuur. Onze massieve focusringen van siliciumcarbide presteren beter dan traditioneel silicium in termen van mechanische sterkte, chemische weerstand, thermische geleidbaarheid, duurzaamheid bij hoge temperaturen en weerstand tegen ionenetsen.
Hoge dichtheid voor lagere etssnelheden.
Uitstekende isolatie met een hoge bandafstand.
Hoge thermische geleidbaarheid en lage thermische uitzettingscoëfficiënt.
Superieure mechanische slagvastheid en elasticiteit.
Hoge hardheid, slijtvastheid en corrosiebestendigheid.
Vervaardigd met behulp vanplasma-versterkte chemische dampafzetting (PECVD)technieken voldoen onze SiC-focusringen aan de toenemende eisen van etsprocessen in de halfgeleiderproductie. Ze zijn ontworpen om hogere plasmakracht en energie te weerstaan, met name incapacitief gekoppeld plasma (CCP)systemen.
De SiC-focusringen van VeTek Semiconductor bieden uitzonderlijke prestaties en betrouwbaarheid bij de productie van halfgeleiderapparaten. Kies onze SiC-componenten voor superieure kwaliteit en efficiëntie.
Het ultrazuivere siliciumcarbide (SiC) van Vetek Semiconductor, gevormd door chemische dampafzetting (CVD), kan worden gebruikt als bronmateriaal voor het laten groeien van siliciumcarbidekristallen door middel van fysisch damptransport (PVT). Bij SiC Crystal Growth New Technology wordt het bronmateriaal in een smeltkroes geladen en gesublimeerd op een kiemkristal. Gebruik de afgedankte CVD-SiC-blokken om het materiaal te recyclen als bron voor het kweken van SiC-kristallen. Welkom bij het aangaan van een partnerschap met ons.
Lees verderStuur onderzoekVeTek Semiconductor is een toonaangevende fabrikant en innovator van CVD SiC-douchekoppen in China. We zijn al vele jaren gespecialiseerd in SiC-materiaal. CVD SiC-douchekop wordt gekozen als focusringmateriaal vanwege de uitstekende thermochemische stabiliteit, hoge mechanische sterkte en weerstand tegen plasma-erosie. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.
Lees verderStuur onderzoekVeTek Semiconductor is een toonaangevende fabrikant en innovator van SiC-douchekoppen in China. We zijn al vele jaren gespecialiseerd in SiC-materiaal. SiC-douchekop wordt gekozen als focusringmateriaal vanwege de uitstekende thermochemische stabiliteit, hoge mechanische sterkte en weerstand tegen plasma-erosie Wij kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.
Lees verderStuur onderzoekVeTek Semiconductor is een toonaangevende SiC-gecoate vat susceptor voor LPE PE2061S fabrikant en innovator in China. We zijn al vele jaren gespecialiseerd in SiC-coatingmateriaal. We bieden een SiC-gecoate vat susceptor die speciaal is ontworpen voor LPE PE2061S 4'' wafers. Deze susceptor is voorzien van een duurzame siliciumcarbidecoating die de prestaties en duurzaamheid verbetert tijdens het LPE-proces (Liquid Phase Epitaxy). Wij heten u welkom in onze fabriek in China.
Lees verderStuur onderzoekVeTek Semiconductor is een toonaangevende fabrikant en innovator van Solid SiC-gasdouchekoppen in China. Wij zijn al vele jaren gespecialiseerd in halfgeleidermateriaal. Het multi-porositeitsontwerp van VeTek Semiconductor Solid SiC-gasdouchekop zorgt ervoor dat de warmte die wordt gegenereerd tijdens het CVD-proces kan worden verspreid , zodat het substraat gelijkmatig wordt verwarmd. We kijken ernaar uit om voor de lange termijn met u in China te gaan werken.
Lees verderStuur onderzoekVeTek Semiconductor is een toonaangevende fabrikant en innovator van massieve SiC-randringen met chemische dampdepositieprocessen in China. We zijn al vele jaren gespecialiseerd in halfgeleidermateriaal. VeTek Semiconductor massieve SiC-randringen bieden verbeterde etsuniformiteit en nauwkeurige waferpositionering bij gebruik met een elektrostatische spantang , waardoor consistente en betrouwbare etsresultaten worden gegarandeerd. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.
Lees verderStuur onderzoek