CVD SiC is een zeer zuiver siliciumcarbidemateriaal vervaardigd door chemische dampafzetting. Het wordt voornamelijk gebruikt voor verschillende componenten en coatings in halfgeleiderverwerkingsapparatuur. De volgende inhoud is een inleiding tot de productclassificatie en kernfuncties van CVD SiC
Lees verderIn de halfgeleiderindustrie heeft de depositietechnologie van dunne-filmmaterialen, nu de omvang van de apparaten steeds kleiner wordt, voor ongekende uitdagingen gezorgd. Atomic Layer Deposition (ALD), een dunnefilmdepositietechnologie die nauwkeurige controle op atomair niveau kan bereiken, is een......
Lees verderHet is ideaal om geïntegreerde schakelingen of halfgeleiderapparaten op een perfecte kristallijne basislaag te bouwen. Het epitaxieproces (epi) bij de vervaardiging van halfgeleiders heeft tot doel een fijne enkelkristallijne laag, gewoonlijk ongeveer 0,5 tot 20 micron, op een enkelkristallijn subst......
Lees verder