Hoeveel weet u over CVD SiC?

CVD SiC(Chemical Vapour Deposition Silicon Carbide) is een zeer zuiver siliciumcarbidemateriaal vervaardigd door chemische dampafzetting. Het wordt voornamelijk gebruikt voor verschillende componenten en coatings in halfgeleiderverwerkingsapparatuur.CVD SiC-materiaalheeft een uitstekende thermische stabiliteit, hoge hardheid, lage thermische uitzettingscoëfficiënt en uitstekende chemische corrosieweerstand, waardoor het een ideaal materiaal is voor gebruik onder extreme procesomstandigheden.

CVD SiC-materiaal wordt veel gebruikt in componenten met een hoge temperatuur, een zeer corrosieve omgeving en hoge mechanische spanning in het halfgeleiderproductieproces.voornamelijk inclusief de volgende producten:

CVD SiC-coating:

Het wordt gebruikt als beschermende laag voor halfgeleiderverwerkingsapparatuur om te voorkomen dat het substraat wordt beschadigd door hoge temperaturen, chemische corrosie en mechanische slijtage.

SiC Wafelboot:

Het wordt gebruikt voor het dragen en transporteren van wafels bij processen bij hoge temperaturen (zoals diffusie en epitaxiale groei) om de stabiliteit van wafels en de uniformiteit van processen te garanderen.

SiC-procesbuis:

SiC-procesbuizen worden voornamelijk gebruikt in diffusieovens en oxidatieovens om een ​​gecontroleerde reactieomgeving voor siliciumwafels te bieden, waardoor nauwkeurige materiaalafzetting en uniforme doteringsverdeling worden gegarandeerd.

SiC cantileverpeddel:

SiC cantileverpeddel wordt voornamelijk gebruikt om siliciumwafels te dragen of te ondersteunen in diffusieovens en oxidatieovens, en speelt een dragende rol. Vooral bij hoge temperatuurprocessen zoals diffusie, oxidatie, gloeien, enz. zorgt het voor de stabiliteit en uniforme behandeling van siliciumwafels in extreme omgevingen.

CVD SiC-douchekop:

Het wordt gebruikt als gasdistributiecomponent in plasma-etsapparatuur, met uitstekende corrosieweerstand en thermische stabiliteit om een ​​uniforme gasverdeling en etseffect te garanderen.

SiC-gecoat plafond:

Componenten in de reactiekamer van de apparatuur, die worden gebruikt om de apparatuur te beschermen tegen schade door hoge temperaturen en corrosieve gassen, en om de levensduur van de apparatuur te verlengen.

Silicium-epitaxie-susceptoren:

Waferdragers die worden gebruikt in epitaxiale groeiprocessen van silicium om een ​​uniforme verwarmings- en afzettingskwaliteit van wafers te garanderen.

Chemisch opgedampt siliciumcarbide (CVD SiC) heeft een breed scala aan toepassingen in de halfgeleiderverwerking, voornamelijk gebruikt om apparaten en componenten te vervaardigen die bestand zijn tegen hoge temperaturen, corrosie en hoge hardheid.Zijn kernrol komt tot uiting in de volgende aspecten:

Beschermende coatings in omgevingen met hoge temperaturen:

Functie: CVD SiC wordt vaak gebruikt voor oppervlaktecoatings van belangrijke componenten in halfgeleiderapparatuur (zoals suceptoren, bekledingen van reactiekamers, enz.). Deze componenten moeten werken in omgevingen met hoge temperaturen, en CVD SiC-coatings kunnen uitstekende thermische stabiliteit bieden om het substraat te beschermen tegen schade door hoge temperaturen.

Voordelen: Het hoge smeltpunt en de uitstekende thermische geleidbaarheid van CVD SiC zorgen ervoor dat de componenten langdurig stabiel kunnen werken onder hoge temperaturen, waardoor de levensduur van de apparatuur wordt verlengd.

Anti-corrosie toepassingen:

Functie: In het productieproces van halfgeleiders kan CVD SiC-coating effectief weerstand bieden aan de erosie van corrosieve gassen en chemicaliën en de integriteit van apparatuur en apparaten beschermen. Dit is vooral belangrijk bij de omgang met zeer corrosieve gassen zoals fluoriden en chloriden.

Voordelen: Door CVD SiC-coating op het oppervlak van het onderdeel aan te brengen, kunnen de schade aan de apparatuur en de onderhoudskosten veroorzaakt door corrosie aanzienlijk worden verminderd en kan de productie-efficiëntie worden verbeterd.

Hoge sterkte en slijtvaste toepassingen:

Functie: CVD SiC-materiaal staat bekend om zijn hoge hardheid en hoge mechanische sterkte. Het wordt veel gebruikt in halfgeleidercomponenten die slijtvastheid en hoge precisie vereisen, zoals mechanische afdichtingen, dragende componenten, enz. Deze componenten worden tijdens bedrijf blootgesteld aan sterke mechanische spanning en wrijving. CVD SiC kan deze spanningen effectief weerstaan ​​en de lange levensduur en stabiele prestaties van het apparaat garanderen.

Voordelen: Componenten gemaakt van CVD SiC zijn niet alleen bestand tegen mechanische belasting in extreme omgevingen, maar behouden ook na langdurig gebruik hun maatvastheid en oppervlakteafwerking.

Tegelijkertijd speelt CVD SiC een cruciale rolLED epitaxiale groei, vermogenshalfgeleiders en andere velden. Bij het productieproces van halfgeleiders worden doorgaans CVD SiC-substraten gebruiktEPI SUSCEPTOR's. Hun uitstekende thermische geleidbaarheid en chemische stabiliteit zorgen ervoor dat de gegroeide epitaxiale lagen een hogere kwaliteit en consistentie hebben. Daarnaast wordt CVD SiC ook veel gebruikt inPSS-etsdragers, RTP-wafeldragers, ICP-etsdragers, enz., die stabiele en betrouwbare ondersteuning bieden tijdens het etsen van halfgeleiders om de prestaties van het apparaat te garanderen.

VeTek semiconductor Technology Co., LTD is een toonaangevende leverancier van geavanceerde coatingmaterialen voor de halfgeleiderindustrie. Ons bedrijf richt zich op het ontwikkelen van geavanceerde oplossingen voor de industrie.

Ons belangrijkste productaanbod omvat CVD-siliciumcarbide (SiC) coatings, tantaalcarbide (TaC) coatings, bulk SiC, SiC-poeders en zeer zuivere SiC-materialen, SiC-gecoate grafiet susceptor, voorverwarmen, TaC-gecoate afleidingsring, halvemaan, snijonderdelen enz. ., de zuiverheid is lager dan 5 ppm, snijringen kunnen aan de eisen van de klant voldoen.

VeTek semiconductor richt zich op het ontwikkelen van geavanceerde technologie en productontwikkelingsoplossingen voor de halfgeleiderindustrie.Wij hopen oprecht uw langetermijnpartner in China te worden.