CVD SiC-gecoat plafond

VeTek-halfgeleider Plafond met CVD SiC-coatingwordt op grote schaal gebruikt op het gebied van halfgeleiderverwerking vanwege zijn uitstekende prestaties. Het kan niet alleen de cleanroomomgeving effectief beschermen, maar ook de productie-efficiëntie verbeteren en de productiekosten verlagen. Wij zijn oprecht blij met uw overleg.

De specifieke rol van VeTek Semiconductor'sPlafond met CVD SiC-coatingop het gebied van halfgeleiderverwerking is als volgt:

Bescherming van het milieu in schone ruimtes:

Anti-vervuiling: Het oppervlak van de SiC-coating is glad en dicht en het is niet gemakkelijk om deeltjes te adsorberen, wat de verspreiding van deeltjes in de cleanroomomgeving effectief voorkomt en de hoge zuiverheid van het product garandeert.

Chemische corrosiebestendigheid: de SiC-coating is bestand tegen de corrosie van sterke zuren, sterke basen en andere chemicaliën, beschermt de plafondstructuur en verlengt de levensduur.

Statische controle:

Verminder statische elektriciteit: De SiC-coating heeft een goede geleidbaarheid, wat de opwekking en accumulatie van statische elektriciteit effectief kan verminderen en de schade van statische elektriciteit aan halfgeleiderapparaten kan verminderen.

Thermisch beheer:

Warmteafvoer: De hoge thermische geleidbaarheid van SiC helpt de warmte snel af te voeren, de temperatuur in de cleanroom te verlagen en een stabiele werkomgeving te bieden voor precisie-instrumenten en -apparatuur.

Slijtvastheid: Verleng de levensduur: De SiC-coating heeft een extreem hoge hardheid, die effectief bestand is tegen slijtage, de levensduur van het plafond verlengt en de onderhoudskosten verlaagt.

In de toekomst, met de voortdurende ontwikkeling van halfgeleidertechnologie,CVD SiC-coatingplafondszal op meer terreinen worden gebruikt, waardoor betrouwbaardere garanties worden geboden voor de ontwikkeling van de halfgeleiderindustrie.

Productparameter:

Plafond met CVD SiC-coatingProductie winkels:

Overzicht van de epitaxie-industrieketen van halfgeleiderchips：