Ring voorverwarmen

VeTek Semiconductor is een innovator van de SiC-coatingfabrikant in China. Pre-Heat Ring geleverd door VeTek Semiconductor is ontworpen voor het Epitaxy-proces. De uniforme siliciumcarbidecoating en het hoogwaardige grafietmateriaal als grondstoffen zorgen voor een consistente afzetting en verbeteren de kwaliteit en uniformiteit van de epitaxiale laag. We kijken ernaar uit om een langdurige samenwerking met u op te zetten.

Stuur onderzoek

Productomschrijving

De Pre-Heat Ring is een sleutelapparaat dat speciaal is ontworpen voor het epitaxiale (EPI) proces bij de productie van halfgeleiders. Het wordt gebruikt om wafels voor te verwarmen vóór het EPI-proces, waardoor temperatuurstabiliteit en uniformiteit tijdens de epitaxiale groei worden gegarandeerd.

Onze EPI-voorverwarmingsring, vervaardigd door VeTek Semiconductor, biedt verschillende opvallende kenmerken en voordelen. Ten eerste is het gemaakt van materialen met een hoge thermische geleidbaarheid, waardoor een snelle en uniforme warmteoverdracht naar het waferoppervlak mogelijk is. Dit voorkomt de vorming van hotspots en temperatuurgradiënten, waardoor een consistente afzetting wordt gegarandeerd en de kwaliteit en uniformiteit van de epitaxiale laag wordt verbeterd.

Bovendien is onze EPI Pre Heat Ring uitgerust met een geavanceerd temperatuurcontrolesysteem, waardoor nauwkeurige en consistente controle van de voorverwarmtemperatuur mogelijk is. Dit controleniveau verbetert de nauwkeurigheid en herhaalbaarheid van cruciale stappen zoals kristalgroei, materiaalafzetting en grensvlakreacties tijdens het EPI-proces.

Duurzaamheid en betrouwbaarheid zijn essentiële aspecten van ons productontwerp. De EPI Pre Heat Ring is gebouwd om hoge temperaturen en bedrijfsdrukken te weerstaan, waardoor de stabiliteit en prestaties gedurende langere perioden behouden blijven. Deze ontwerpaanpak verlaagt de onderhouds- en vervangingskosten, waardoor betrouwbaarheid en operationele efficiëntie op de lange termijn worden gegarandeerd.

Installatie en bediening van de EPI-voorverwarmingsring zijn eenvoudig, omdat deze compatibel is met gewone EPI-apparatuur. Het beschikt over een gebruiksvriendelijk mechanisme voor het plaatsen en ophalen van wafers, wat het gemak en de operationele efficiëntie vergroot.

Bij VeTek Semiconductor bieden we ook maatwerkdiensten om aan specifieke klantvereisten te voldoen. Dit omvat het afstemmen van de grootte, vorm en temperatuurbereik van de EPI-voorverwarmingsring op unieke productiebehoeften.

Voor onderzoekers en fabrikanten die betrokken zijn bij epitaxiale groei en de productie van halfgeleiderapparaten, biedt de EPI Pre Heat Ring van VeTek Semiconductor uitzonderlijke prestaties en betrouwbare ondersteuning. Het dient als een cruciaal hulpmiddel bij het bereiken van epitaxiale groei van hoge kwaliteit en het faciliteren van efficiënte productieprocessen voor halfgeleiderapparaten.

Fysische basiseigenschappen van CVD SiC-coating:

Fysische basiseigenschappen van CVD SiC-coating
Eigendom	Typische waarde
Kristal structuur	FCC β-fase polykristallijn, voornamelijk (111) georiënteerd
Dikte	3,21 g/cm³
Hardheid	2500 Vickers-hardheid (500 g belasting)
Korrelgrootte	2~10μm
Chemische zuiverheid	99,99995%
Warmte capaciteit	640 J·kg-1·K-1
Sublimatie temperatuur	2700℃
Buigsterkte	415 MPa RT 4-punts
Young's Modulus	430 Gpa 4pt bocht, 1300℃
Warmtegeleiding	300W·m-1·K-1
Thermische uitzetting (CTE)	4,5 × 10-6K-1