CVD SiC grafietcilinder

De CVD SiC-grafietcilinder van Vetek Semiconductor speelt een belangrijke rol in halfgeleiderapparatuur. Het wordt meestal gebruikt als beschermhoes in de reactor om bescherming te bieden aan de interne componenten van de reactor in omgevingen met hoge temperaturen en hoge druk. Deze beschermhoes kan de chemicaliën en hoge temperaturen in de reactor effectief isoleren, waardoor wordt voorkomen dat ze schade aan de apparatuur veroorzaken. Tegelijkertijd heeft de CVD SiC-grafietcilinder ook een uitstekende slijtvastheid en corrosieweerstand, waardoor deze in staat is de stabiliteit en duurzaamheid op lange termijn te behouden in zware werkomgevingen. Door beschermhoezen van dit materiaal te gebruiken, kunnen de prestaties en betrouwbaarheid van halfgeleiderapparaten worden verbeterd, waardoor de levensduur van het apparaat wordt verlengd en de onderhoudsbehoeften en het risico op schade worden verminderd.

CVD SiC-grafietcilinder heeft een breed scala aan toepassingen in halfgeleiderapparatuur, inclusief maar niet beperkt tot de volgende aspecten:

Warmtebehandelingsapparatuur: CVD SiC-grafietcilinder kan worden gebruikt als beschermhoes of hitteschild in warmtebehandelingsapparatuur om interne componenten tegen hoge temperaturen te beschermen en tegelijkertijd uitstekende weerstand tegen hoge temperaturen te bieden.

Reactor voor chemische dampafzetting (CVD): In de CVD-reactor kan de CVD SiC-grafietcilinder worden gebruikt als beschermende afdekking voor de chemische reactiekamer, waardoor de reactiestof effectief wordt geïsoleerd en corrosieweerstand wordt geboden.

Toepassingen in corrosieve omgevingen: Vanwege de uitstekende corrosieweerstand kan de CVD SiC-grafietcilinder worden gebruikt in chemisch gecorrodeerde omgevingen, zoals corrosieve gas- of vloeistofomgevingen tijdens de productie van halfgeleiders.

Halfgeleidergroeiapparatuur: Beschermende afdekkingen of andere componenten die worden gebruikt in halfgeleidergroeiapparatuur om apparatuur te beschermen tegen hoge temperaturen, chemische corrosie en slijtage om de stabiliteit van de apparatuur en betrouwbaarheid op lange termijn te garanderen.

Hoge temperatuurstabiliteit, corrosieweerstand, uitstekende mechanische eigenschappen, thermische geleidbaarheid. Met deze uitstekende prestaties helpt het om de warmte efficiënter af te voeren in halfgeleiderapparaten, waardoor de stabiliteit en prestaties van het apparaat behouden blijven.

Fysische basiseigenschappen van CVD SiC-coating:

Productiewinkels:

Overzicht van de epitaxie-industrieketen van halfgeleiderchips: