VEECO MOCVD-verwarming

De VEECO MOCVD-verwarmer van VeTeksemi is gemaakt van zeer zuiver grafietmateriaal met een onzuiverheidsgehalte dat strikt wordt gecontroleerd onder de 5 ppm, en gecoat met ultrahoogzuiver siliciumcarbide (SiC) met een zuiverheid van meer dan 99,99995% via eenchemisch dampdepositieproces (CVD).. Deze combinatie van materialen geeft de verwarmer een reeks belangrijke eigenschappen die uitstekende prestaties in de omgeving garanderenmetaalorganische chemische dampdepositie (MOCVD)proces.

Een van de opvallende kenmerken van de VEECO MOCVD-verwarmer is de buitengewone chemische zuiverheid. De zeer zuivere grafietkern vermindert de potentiële introductie van verontreinigingen in het hogetemperatuurproces aanzienlijk, waardoor een ultraschoon filmafzettingsproces wordt gegarandeerd. DeCVD SiC-coatingbiedt extra bescherming voor de verwarmer en vormt een sterke barrière om chemische reacties te voorkomen die de filmkwaliteit kunnen beschadigen. Deze ongeëvenaarde zuiverheid is essentieel voor de productie van hoogwaardige, betrouwbare halfgeleiderapparaten.

Tegelijkertijd vertoont de verwarmer een extreem hoge thermische stabiliteit en efficiëntie. SiC heeft een hoog smeltpunt en uitstekende thermische geleidbaarheid, waardoor de verwarmer de warmte effectief kan beheren en geleiden. Dit zorgt voor een uniforme verwarming over het substraat, wat op zijn beurt helpt bij het bereiken van een uniforme filmafzetting en het verminderen van defecten veroorzaakt door thermische gradiënten. Een dergelijk thermisch rendement is bijzonder belangrijk voor precisiefabricage.

De VEECO MOCVD-kachel blinkt ook uit in elektrische prestaties. De zeer zuivere grafietkern heeft een uitstekende elektrische geleidbaarheid, waardoor de verwarmer hoge elektrische belastingsvereisten aankan. Dankzij deze stabiele elektrische prestaties kan de verwarmer een nauwkeurige temperatuurregeling en afzettingssnelheid handhaven onder omstandigheden met hoge belasting, wat van cruciaal belang is voor het garanderen van consistente procesomstandigheden en het verbeteren van de efficiëntie van de halfgeleiderproductie.

Het oppervlakteontwerp van de verwarmer is zorgvuldig geoptimaliseerd om een ​​hoge substraatemissiviteit te hebben, wat de efficiëntie van de stralingswarmteoverdracht aanzienlijk verbetert. Het vermogen om gelijkmatig te verwarmen is een sleutelfactor bij het garanderen van een consistente dikte en kenmerken van de filmafzetting. Het oppervlakontwerp met hoge emissiviteit verbetert ook de algehele thermische efficiëntie van de verwarming, waardoor het energieverbruik wordt verminderd en de bedrijfskosten worden verlaagd.

In termen van duurzaamheid vertoont de VEECO MOCVD-verwarmer van VeTeksemi uitstekende corrosieweerstand, oxidatieweerstand en mechanische sterkte. CVD SiC-coating biedt een solide barrière tegen de corrosieve gassen en chemicaliën die veel voorkomen in MOCVD-processen, waardoor de levensduur van de apparatuur wordt verlengd en de onderhoudsbehoeften en vervangingskosten worden verminderd. De oxidatieweerstand zorgt ervoor dat de verwarmer stabiel blijft bij hoge temperaturen zonder prestatieverlies, waardoor stabiliteit op lange termijn wordt gegarandeerd.

Bovendien zorgt de hoge mechanische sterkte van VeTeksemi's MOCVD-verwarmer ervoor dat deze bestand is tegen de fysieke spanningen die worden gegenereerd tijdens thermische cycli en substraathantering. De robuustheid ervan vermindert het risico op mechanische storingen en zorgt voor een betrouwbare werking van de apparatuur onder zware procesomstandigheden.

Als geavanceerde fabrikant en leverancier van VEECO MOCVD verwarmingsproducten levert VeTeksemi ook een verscheidenheid aan hoogwaardige verwarmingsproducten zoalsTaC-coatingverwarmer, Siliciumcarbide keramische coating grafietverwarmer, Siliciumcarbide keramische coatingverwarmer, enz. VeTek Semiconductor streeft ernaar geavanceerde en aanpasbare technologie en productoplossingen te bieden voor de halfgeleiderindustrie. Wij hopen oprecht uw langetermijnpartner in China te zijn.