Thuis > Producten > Tantaalcarbide coating > SiC-epitaxieproces > Tantaalcarbide gecoate planetaire rotatieschijf
Tantaalcarbide gecoate planetaire rotatieschijf
  • Tantaalcarbide gecoate planetaire rotatieschijfTantaalcarbide gecoate planetaire rotatieschijf
  • Tantaalcarbide gecoate planetaire rotatieschijfTantaalcarbide gecoate planetaire rotatieschijf

Tantaalcarbide gecoate planetaire rotatieschijf

VeTek Semiconductor is een toonaangevende fabrikant en innovator van tantaalcarbide gecoate planetaire rotatieschijven in China. We zijn al vele jaren gespecialiseerd in keramische coating. Onze producten hebben een hoge zuiverheid en hoge temperatuurbestendigheid. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner te worden in China.

Stuur onderzoek

Productomschrijving



Hoogwaardige tantaalcarbide gecoate planetaire rotatieschijf wordt aangeboden door de Chinese fabrikant VeTek Semiconductor. KopenTantaalcarbide gecoatPlanetaire rotatieschijf die direct van hoge kwaliteit is tegen een lage prijs.

De met tantaalcarbide gecoate planetaire rotatieschijf is een accessoire ontworpen voor het AIXTRON G10 MOCVD-systeem, met als doel de efficiëntie en kwaliteit bij de productie van halfgeleiders te verbeteren. De met tantaalcarbide gecoate planetaire rotatieschijf is vervaardigd uit hoogwaardige materialen en met precisie vervaardigd en biedt uitstekende prestaties en betrouwbaarheid voorMetaal-organische chemische dampafzetting (MOCVD) processen.

De planetaire schijf is geconstrueerd met behulp van een grafietsubstraat bedekt metCVD TaC, dat uitstekende thermische stabiliteit, hoge zuiverheid en weerstand tegen hoge temperaturen biedt.

De Planetary Disk is aanpasbaar om tegemoet te komen aan verschillende halfgeleiderwafelformaten en is geschikt voor verschillende productie-eisen. De robuuste constructie is speciaal ontworpen om de veeleisende bedrijfsomstandigheden van het MOCVD-systeem te weerstaan, waardoor langdurige prestaties worden gegarandeerd en de uitvaltijd en onderhoudskosten die verband houden met waferdragers en susceptors worden geminimaliseerd.

Met de Planetaire Schijf, deAIXTRON G10 MOCVD-systeemkan een hogere efficiëntie en superieure resultaten bereiken bij de productie van halfgeleiders. De uitzonderlijke thermische stabiliteit, compatibiliteit met verschillende wafergroottes en betrouwbare prestaties maken het tot een essentieel hulpmiddel voor het optimaliseren van de productie-efficiëntie en het bereiken van uitstekende resultaten in de uitdagende MOCVD-omgeving.



Productparameter van de tantaalcarbide gecoate planetaire rotatieschijf:


Fysische eigenschappen van TaC-coating
Dikte 14,3 (g/cm³)
Specifieke emissiviteit 0.3
Thermische uitzettingscoëfficiënt 6,3*10-6/K
Hardheid (HK) 2000 Hongkong
Weerstand 1×10-5Ohm*cm
Thermische stabiliteit <2500℃
Grafietgrootte verandert -10~-20um
Dikte van de coating ≥20um typische waarde (35um±10um)


AlGaN-barrière: uniformiteit van de Al-samenstelling:


Al composition uniformity


VeTek halfgeleiderproductiewinkel:


Tantalum Carbide Coated Planetary Rotation Disk


Hottags: Tantaalcarbide gecoate planetaire rotatieschijf, China, fabrikant, leverancier, fabriek, aangepast, kopen, geavanceerd, duurzaam, gemaakt in China
Gerelateerde categorie
Stuur onderzoek
Stel gerust uw vraag via onderstaand formulier. Wij zullen u binnen 24 uur antwoorden.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept