Thuis > Producten > Tantaalcarbide coating > SiC-epitaxieproces > Tantaalcarbide coatingafdekking
Tantaalcarbide coatingafdekking
  • Tantaalcarbide coatingafdekkingTantaalcarbide coatingafdekking

Tantaalcarbide coatingafdekking

VeTek Semiconductor is een toonaangevende fabrikant en innovator van Tantalum Carbide Coating Cover in China. Wij richten ons op het leveren van zeer zuivere tantaalcarbideproducten die bestand zijn tegen hoge temperaturen. Onze tantaalcarbide gecoate afdekking heeft uitstekende prestaties en betrouwbaarheid en kan materialen effectief beschermen in extreem hoge temperaturen en corrosieve omgevingen. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.

Stuur onderzoek

Productomschrijving

VeTek Semiconducto is een professionele fabrikant en leverancier van tantaalcarbide coatingcovers in China. Onze Tantalum Carbide Coating Cover vertegenwoordigt de nieuwste oplossing in thermische toepassingen voor kristalgroei en epitaxie (epi) processen. Deze zorgvuldig vervaardigde, unieke hoes is een cruciaal onderdeel voor het ondersteunen van kristalvorming en epitaxiale filmafzetting.

Het kernmateriaal van de TaC Coated Graphite Cover is gemaakt van hoogwaardig grafiet, dat bekend staat om zijn uitstekende thermische geleidbaarheid en stabiliteit. Het vermogen van Grafiet om extreme temperaturen te weerstaan, maakt het tot een ideaal materiaal voor thermische veldtoepassingen, waardoor een lange levensduur en betrouwbaarheid in veeleisende omgevingen wordt gegarandeerd.

Het unieke kenmerk van de TaC Coated Graphite Cover is de innovatieve Tantalum Carbide (TaC) coating. Deze geavanceerde coating verbetert de prestaties van de hoes door een robuuste beschermingslaag toe te voegen en de weerstand tegen corrosie, slijtage en thermische schokken te verbeteren. De TaC-coating verbetert niet alleen de sterkte van de hoes onder zware omstandigheden, maar verbetert ook de efficiëntie en verlengt de levensduur.

Tijdens het kristalgroeiproces vergemakkelijkt de TaC Coated Graphite Cover een nauwkeurige temperatuurregeling en verdeelt de warmte gelijkmatig, waardoor een omgeving ontstaat die bevorderlijk is voor de vorming van hoogwaardige kristallen. Bovendien zorgt het aanpassingsvermogen ervan tijdens het epitaxieproces voor een gecontroleerde afzetting van dunne films, wat van cruciaal belang is voor halfgeleider- en materiaalwetenschappelijke toepassingen.

Deze zorgvuldig ontworpen met TaC gecoate grafietkap demonstreert volledig de synergie tussen de inherente eigenschappen van grafiet en de verbeterde mogelijkheden van de TaC-coating. Of het nu wordt gebruikt in laboratoria, onderzoeksinstellingen of industriële omgevingen, de met TaC gecoate grafietkap is een toonbeeld van thermische technologische innovatie en biedt een betrouwbare en duurzame oplossing voor kristalgroei- en epitaxieprocessen. VeTek Semiconductor zal zich blijven inzetten om klanten de meest geavanceerde technologische oplossingen en uitgebreide ondersteuning te bieden.


Productparameter van de Tantalum Carbide Coating Cover

Fysische eigenschappen van TaC-coating
Dikte 14,3 (g/cm³)
Specifieke emissiviteit 0.3
Thermische expansiecoëfficiënt 6.3 10-6/K
Hardheid (HK) 2000 Hongkong
Weerstand 1×10-5 Ohm*cm
Thermische stabiliteit <2500℃
Grafietgrootte verandert -10~-20um
Bekledingsdikte ≥20um typische waarde (35um±10um)


VeTek halfgeleiderproductiewinkel


Overzicht van de epitaxie-industrieketen van halfgeleiderchips:


Hottags: Tantaalcarbide coatingafdekking, China, fabrikant, leverancier, fabriek, aangepast, kopen, geavanceerd, duurzaam, gemaakt in China
Gerelateerde categorie
Stuur onderzoek
Stel gerust uw vraag via onderstaand formulier. Wij zullen u binnen 24 uur antwoorden.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept