Als toonaangevende fabrikant en leverancier van diffusieovenapparatuur in China heeft VeTek Semiconductor SiC Diffusion Furnace Tube een aanzienlijk hoge buigsterkte, uitstekende weerstand tegen oxidatie, corrosieweerstand, hoge slijtvastheid en uitstekende mechanische eigenschappen bij hoge temperaturen. Hierdoor is het een onmisbaar uitrustingsmateriaal in diffusieoventoepassingen. VeTek Semiconductor zet zich in voor de productie en levering van hoogwaardige SiC-diffusieovenbuizen en verwelkomt uw verdere vragen.
Werkschema van SiC-diffusieovenbuis
VeTek Semiconductor SiC-diffusieovenbuis heeft de volgende productvoordelen:
Uitstekende mechanische eigenschappen bij hoge temperaturen: SiC-diffusieovenbuis heeft de beste mechanische eigenschappen bij hoge temperaturen van alle bekende keramische materialen, inclusief uitstekende sterkte en kruipweerstand. Dit maakt het bijzonder geschikt voor toepassingen die langdurige stabiliteit bij hoge temperaturen vereisen.
Uitstekende oxidatieweerstand: De SiC-diffusieovenbuis van VeTek Semiconductor heeft een uitstekende oxidatieweerstand, de beste van alle niet-oxide-keramiek. Deze eigenschap zorgt voor stabiliteit en prestaties op lange termijn in omgevingen met hoge temperaturen, waardoor het risico op degradatie wordt verminderd en de levensduur van de buis wordt verlengd.
● Hoge buigsterkte: VeTekSemi SiC-diffusieovenbuis heeft een buigsterkte van meer dan 200 MPa en garandeert uitstekende mechanische eigenschappen en structurele integriteit onder de hoge spanningsomstandigheden die kenmerkend zijn voor de productieprocessen van halfgeleiders.
● Uitstekende corrosiebestendigheide: De chemische inertheid van SiC Furnace Tube zorgt voor een uitstekende corrosieweerstand, waardoor deze buizen ideaal zijn voor gebruik in de agressieve chemische omgevingen die vaak voorkomen bij de verwerking van halfgeleiders.
● Hoge slijtvastheid: SiC-buisovens hebben een sterke slijtvastheid, wat essentieel is voor het behouden van de maatstabiliteit en het verminderen van de onderhoudsvereisten bij langdurig gebruik in schurende omstandigheden.
● Met CVD-coating: VeTek halfgeleider chemische dampafzetting (CVD) sic-coating heeft een zuiverheidsniveau van meer dan 99,9995%, een onzuiverheidsgehalte van minder dan 5 ppm en schadelijke metaalverontreinigingen van minder dan 1 ppm. Het CVD-coatingproces zorgt ervoor dat de buis voldoet aan de strenge vacuümdichtheidseisen van 2-3Torr, wat van cruciaal belang is voor uiterst nauwkeurige halfgeleiderproductieomgevingen.
● Toepassing in diffusieovens: Deze sic-buizen zijn ontworpen voor halfgeleiderdiffusieovens, waar ze een sleutelrol spelen bij hogetemperatuurprocessen zoals doping en oxidatie. Hun geavanceerde materiaaleigenschappen zorgen ervoor dat ze bestand zijn tegen de zware omstandigheden van deze processen, waardoor de efficiëntie en betrouwbaarheid van de halfgeleiderproductie worden verbeterd.
VeTek Semiconductor zet zich al lang in voor het leveren van geavanceerde technologie en productoplossingen voor de halfgeleiderindustrie en ondersteunt professionele maatwerkdiensten. Als u de SiC-diffusieovenbuis van VeTek Semiconductor kiest, krijgt u een product met uitstekende prestaties en hoge betrouwbaarheid dat voldoet aan de verschillende behoeften van de moderne halfgeleiderproductie. Wij hopen oprecht uw langetermijnpartner in China te zijn.
VeTek Semiconductor SiC Diffusion Furnace Tube-productenwinkels: