Als geavanceerde fabrikant en producent van Tantalum Carbide Ring-producten in China heeft VeTek Semiconductor Tantalum Carbide Ring een extreem hoge hardheid, slijtvastheid, hoge temperatuurbestendigheid en chemische stabiliteit, en wordt het veel gebruikt in de halfgeleiderproductie. Vooral bij CVD, PVD, ionenimplantatieproces, etsproces en wafelverwerking en transport is het een onmisbaar product voor de verwerking en productie van halfgeleiders. Ik kijk uit naar uw verdere overleg.
De Tantalum Carbide (TaC) Ring van VeTek Semiconductor maakt gebruik van hoogwaardig grafiet als kernmateriaal en is dankzij de unieke structuur in staat zijn vorm en mechanische eigenschappen te behouden onder de extreme omstandigheden van een kristalgroeioven. De hoge hittebestendigheid van Grafiet zorgt voor een uitstekende stabiliteit in het gehele oppervlakkristalgroeiproces.
De buitenste laag van de TaC-ring is bedekt met eentantaalcarbide coating, een materiaal dat bekend staat om zijn extreem hoge hardheid, smeltpunt van meer dan 3880°C en uitstekende weerstand tegen chemische corrosie, waardoor het vooral geschikt is voor gebruiksomgevingen met hoge temperaturen. De tantaalcarbidecoating vormt een sterke barrière om gewelddadige chemische reacties effectief te voorkomen en ervoor te zorgen dat de grafietkern niet wordt gecorrodeerd door ovengassen op hoge temperatuur.
Tijdenskristalgroei van siliciumcarbide (SiC).Stabiele en uniforme groeiomstandigheden zijn essentieel voor het garanderen van kristallen van hoge kwaliteit. Tantaalcarbide coatingring speelt een cruciale rol bij het reguleren van de gasstroom en het optimaliseren van de temperatuurverdeling in de oven. Als gasgeleidingsring zorgt de TaC-ring voor een uniforme verdeling van warmte-energie en reactiegassen, waardoor een uniforme groei en stabiliteit van SiC-kristallen wordt gegarandeerd.
Bovendien zorgt de hoge thermische geleidbaarheid van grafiet, gecombineerd met het beschermende effect van Tantalum Carbide Coated, ervoor dat de TaC-geleidingsring stabiel kan werken in de hoge temperatuuromgeving die nodig is voor de groei van SiC-kristallen. De structurele sterkte en dimensionele stabiliteit zijn cruciaal voor het handhaven van de omstandigheden in de oven, wat een directe invloed heeft op de kwaliteit van de geproduceerde kristallen. Door thermische fluctuaties en chemische reacties in de oven te verminderen, helpt TaC Coating Ring bij het genereren van kristallen met uitstekende elektronische eigenschappen voor hoogwaardige halfgeleidertoepassingen.
De tantaalcarbidering van VeTek Semiconductor is een belangrijk onderdeel hiervanovens voor kristalgroei van siliciumcarbideen valt op door zijn uitstekende duurzaamheid, thermische stabiliteit en chemische bestendigheid. De unieke combinatie van grafietkern en TaC-coating zorgt ervoor dat de structurele integriteit en functionaliteit onder zware omstandigheden behouden blijft. Door de temperatuur en de gasstroom in de oven nauwkeurig te regelen, biedt de TaC Coating Ring de noodzakelijke voorwaarden voor de productie van hoogwaardige SiC-kristallen, die cruciaal zijn voor de productie van geavanceerde halfgeleidercomponenten.
Tantaalcarbide (TaC) coating op een microscopische dwarsdoorsnede: