Tantaalcarbide gecoate deksel

VeTek Semiconductor is een toonaangevende fabrikant en innovator van tantaalcarbide gecoate afdekkingen in China. Wij zijn al vele jaren gespecialiseerd in TaC- en SiC-coating. Onze producten hebben een corrosieweerstand en hoge sterkte. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.

Stuur onderzoek

Productomschrijving

Vind een enorme selectie tantaalcarbide gecoate afdekkingen uit China bij VeTek Semiconductor. Bied professionele after-sales service en de juiste prijs, ik kijk uit naar samenwerking. De door VeTek Semiconductor ontwikkelde Tantalum Carbide Coated Cover is een accessoire dat speciaal is ontworpen voor het AIXTRON G10 MOCVD-systeem, met als doel de efficiëntie te optimaliseren en de productiekwaliteit van halfgeleiders te verbeteren. Het is zorgvuldig vervaardigd met behulp van hoogwaardige materialen en met uiterste precisie vervaardigd, waardoor uitstekende prestaties en betrouwbaarheid worden gegarandeerd voor Metal-Organic Chemical Vapour Deposition (MOCVD)-processen.

De Tantalum Carbide Coated Cover is gebouwd met een grafietsubstraat gecoat met Chemical Vapour Deposition (CVD) Tantalum Carbide (TaC) en biedt uitzonderlijke thermische stabiliteit, hoge zuiverheid en weerstand tegen hoge temperaturen. Deze unieke combinatie van materialen biedt een betrouwbare oplossing voor de veeleisende operationele omstandigheden van het MOCVD-systeem.

De met tantaalcarbide gecoate afdekking kan worden aangepast aan verschillende halfgeleiderwafelformaten, waardoor deze geschikt is voor uiteenlopende productievereisten. De robuuste constructie is speciaal ontworpen om de uitdagende MOCVD-omgeving te weerstaan, waardoor langdurige prestaties worden gegarandeerd en de uitvaltijd en onderhoudskosten die verband houden met waferdragers en susceptors worden geminimaliseerd.

Door de TaC-afdekking in het AIXTRON G10 MOCVD-systeem op te nemen, kunnen halfgeleiderfabrikanten een hogere efficiëntie en superieure resultaten bereiken. De uitzonderlijke thermische stabiliteit, compatibiliteit met verschillende wafergroottes en betrouwbare prestaties van de Planetary Disk maken het tot een onmisbaar hulpmiddel voor het optimaliseren van de productie-efficiëntie en het bereiken van uitstekende resultaten in het MOCVD-proces.

Productparameter van de tantaalcarbide gecoate hoes

Fysische eigenschappen van TaC-coating
Dikte	14,3 (g/cm³)
Specifieke emissiviteit	0.3
Thermische expansiecoëfficiënt	6.3 10-6/K
Hardheid (HK)	2000 Hongkong
Weerstand	1×10-5 Ohm*cm
Thermische stabiliteit	<2500℃
Grafietgrootte verandert	-10~-20um
Bekledingsdikte	≥20um typische waarde (35um±10um)