TaC Coating Rotatie Susceptor

VeTek Semiconductor TaC Coating Rotation Susceptor is een sleutelcomponent voor het hanteren van wafers bij de verwerking van halfgeleiders. ZijnTaC Coons heeft een uitstekende hoge temperatuurtolerantie (smeltpunt tot 3880°C), chemische stabiliteit en corrosieweerstand, die een hoge precisie en hoge kwaliteit bij de wafelverwerking garanderen.

TaC Coating Rotation Susceptor (Tantalum Carbon Coating Rotation Susceptor) is een belangrijk onderdeel van de apparatuur dat wordt gebruikt bij de verwerking van halfgeleiders. Meestal wordt het geïnstalleerdchemische dampdepositie (CVD)en apparatuur voor moleculaire bundelepitaxie (MBE) om wafers te ondersteunen en te roteren om een ​​uniforme materiaalafzetting en efficiënte reactie te garanderen. Dit type product verbetert de levensduur en prestaties van de apparatuur in omgevingen met hoge temperaturen en corrosie aanzienlijk door het substraat te coaten mettantaalkoolstof (TaC) coons .

TaC Coating Rotation Susceptor bestaat meestal uit TaC Coating en grafiet of siliciumcarbide als substraatmateriaal. TaC is een keramisch materiaal voor ultrahoge temperaturen met een extreem hoog smeltpunt (smeltpunt tot 3880°C), hardheid (Vickers-hardheid is ongeveer 2000 HK) en uitstekende chemische corrosieweerstand. VeTek Semiconductor kan de tantaalkoolstofcoating op het substraatmateriaal effectief en gelijkmatig bedekken door middel van CVD-technologie.

Rotatie Susceptor is meestal gemaakt van materialen met een hoge thermische geleidbaarheid en hoge sterkte (grafiet ofsiliciumcarbide), dat goede mechanische ondersteuning en thermische stabiliteit kan bieden in omgevingen met hoge temperaturen. De perfecte combinatie van beide bepaalt de perfecte prestatie van TaC Coating Rotation Susceptor bij het ondersteunen en roteren van wafers.

TaC Coating Rotation Susceptor ondersteunt en roteert de wafer tijdens het CVD-proces. De Vickers-hardheid van TaC bedraagt ​​ongeveer 2000 HK, waardoor het bestand is tegen herhaalde wrijving van het materiaal en een goede ondersteunende rol speelt, waardoor wordt verzekerd dat het reactiegas gelijkmatig over het wafeloppervlak wordt verdeeld en het materiaal gelijkmatig wordt afgezet. Tegelijkertijd zorgen de hoge temperatuurtolerantie en corrosieweerstand van TaC Coating ervoor dat het langdurig kan worden gebruikt in hoge temperaturen en corrosieve atmosferen, waardoor vervuiling van de wafer en de drager effectief wordt vermeden.

Bovendien is de thermische geleidbaarheid van TaC 21 W/m·K, wat een goede warmteoverdracht heeft. Daarom kan TaC Coating Rotation Susceptor de wafer gelijkmatig verwarmen onder hoge temperatuuromstandigheden en de uniformiteit van het gasafzettingsproces garanderen door middel van rotatiebeweging, waardoor de consistentie en hoge kwaliteit van het gas wordt behouden.wafel groei.

Tantaalcarbide (TaC) coating op een microscopische dwarsdoorsnede：

Fysische eigenschappen van TaC-coons ：

TaC Coating Rotation Susceptor-winkels: