Rotatieplaat met TaC-coating

De TaC-coating Rotatieplaat van VeTek Semiconductor heeft een hoge zuiverheidssamenstelling, een onzuiverheidsgehalte van minder dan 5 ppm en een dichte en uniforme structuur, die veel wordt gebruikt in LPE EPI-systemen, Aixtron-systemen, Nuflare-systemen, TEL CVD-systemen, VEECO-systemen, TSI systemen.

Uitstekende mechanische eigenschappen:

Coatinghardheid tot 2300HV, met uitstekende slijtvastheid.

De hechting tussen de coating en het substraat is sterk en valt niet gemakkelijk af of laat los.

De coating kan bij hoge temperaturen nog steeds een goede structurele stabiliteit behouden.

Uitstekende corrosieweerstand:

TaC-materiaal zelf heeft uitstekende chemische stabiliteit en corrosieweerstand.

De coatings van VeTek Semiconductor presteren goed in een verscheidenheid aan agressieve gasomgevingen.

Kan de interne componenten van de apparatuur effectief beschermen tegen corrosieschade.

Hoge oppervlakteafwerking:

VeTek semiconductor maakt gebruik van een nauwkeurig coatingproces om de gewenste afwerking te verkrijgen.

Een lage oppervlakteruwheid helpt de ophoping en afzetting van deeltjes te verminderen.

De consistentie van de coating is goed:

VeTek-halfgeleiderheeft een gedegen kwaliteitscontrolesysteem om consistente prestaties tussen batches te garanderen.

De laagdikte is gelijkmatig verdeeld en er zijn geen duidelijke plaatselijke gebreken.

Uitstekende praktische toepassingsprestaties:

De TaC-coating van VeTek semiconductor wordt veel gebruikt door veel bekende fabrikanten van epitaxiale apparatuur in binnen- en buitenland.

Productfysische parameter van de TaC gecoate rotatieplaat: