TaC-coatingplaat

U kunt er zeker van zijn dat u TaC-coatingplaat in onze fabriek koopt. Onze TaC-coatingplaat werkt als een belangrijk onderdeel van de halfgeleider-epitaxiereactor, die een uitstekende epitaxiale laagopbrengst en groei-efficiëntie bevordert. Verbeter de productkwaliteit.

Voor de productie van nieuwe halfgeleiders met zwaardere en zwaardere preparatieomgevingen, zoals de voorbereiding van de derde hoofdgroep nitride epitaxiale plaat (GaN) door metaal-organische chemische dampafzetting (MOCVD), en de voorbereiding van epitaxiale SiC-groeifilms door chemische damp depositie (CVD) worden geërodeerd door gassen zoals H2 en NH3 in omgevingen met hoge temperaturen. De SiC- en BN-beschermlagen op het oppervlak van bestaande groeidragers of gaskanalen kunnen falen vanwege hun betrokkenheid bij chemische reacties, wat de kwaliteit van producten zoals kristallen en halfgeleiders negatief beïnvloedt. Daarom is het noodzakelijk om een ​​materiaal te vinden met betere chemische stabiliteit en corrosieweerstand als beschermende laag om de kwaliteit van kristallen, halfgeleiders en andere producten te verbeteren. Tantaalcarbide heeft uitstekende fysische en chemische eigenschappen, vanwege de rol van sterke chemische bindingen, de chemische stabiliteit bij hoge temperaturen en de corrosieweerstand is veel hoger dan SiC, BN, enz., Het is een geweldig toepassingsperspectief van corrosieweerstand, thermische stabiliteit, uitstekende coating .

VeTek Semiconductor beschikt over geavanceerde productieapparatuur en een perfect kwaliteitsmanagementsysteem, strikte procescontrole om de TaC-coating in batches van prestatieconsistentie te garanderen, het bedrijf beschikt over grootschalige productiecapaciteit om te voldoen aan de behoeften van klanten in grote hoeveelheden aanbod, perfecte kwaliteitsbewaking mechanisme om de kwaliteit van elk product stabiel en betrouwbaar te garanderen.

Productparameter van de TaC-coatingplaat:

Industriële keten:

Productie winkel