Producten

View as

SiC-gecoate steun voor LPE PE2061S

VeTek Semiconductor is een toonaangevende fabrikant en leverancier van SiC-gecoate ondersteuning voor LPE PE2061S in China. SiC gecoate ondersteuning voor LPE PE2061S is geschikt voor LPE silicium epitaxiale reactor. Als onderkant van de loopbasis is de SiC-gecoate ondersteuning voor LPE PE2061S bestand tegen hoge temperaturen van 1600 graden Celsius, waardoor een ultralange levensduur van het product wordt bereikt en de kosten voor de klant worden verlaagd. Ik kijk uit naar uw aanvraag en verdere communicatie.

Lees verder Stuur onderzoek

SiC gecoate bovenplaat voor LPE PE2061S

VeTek Semiconductor is al vele jaren nauw betrokken bij SiC-coatingproducten en is uitgegroeid tot een toonaangevende fabrikant en leverancier van SiC-gecoate bovenplaten voor LPE PE2061S in China. De door ons geleverde SiC-gecoate bovenplaat voor LPE PE2061S is ontworpen voor LPE-silicium epitaxiale reactoren en bevindt zich aan de bovenkant, samen met de cilinderbasis. Deze SiC-gecoate bovenplaat voor LPE PE2061S heeft uitstekende eigenschappen zoals hoge zuiverheid, uitstekende thermische stabiliteit en uniformiteit, wat helpt bij het groeien van hoogwaardige epitaxiale lagen. Welk product u ook nodig heeft, wij verheugen ons op uw aanvraag.

Lees verder Stuur onderzoek

Susceptor met SiC-coating voor LPE PE2061S

Als een van de toonaangevende productiefabrieken voor wafer susceptor in China heeft VeTek Semiconductor voortdurende vooruitgang geboekt op het gebied van wafer susceptorproducten en is het de eerste keuze geworden voor veel epitaxiale waferfabrikanten. De SiC-gecoate vatsusceptor voor LPE PE2061S geleverd door VeTek Semiconductor is ontworpen voor LPE PE2061S 4'' wafers. De susceptor heeft een duurzame siliciumcarbidecoating die de prestaties en duurzaamheid tijdens het LPE-proces (liquid phase epitaxie) verbetert. Stem in met uw onderzoek, wij kijken ernaar uit om uw partner op lange termijn te worden.

Lees verder Stuur onderzoek

Douchekop van massief SiC-gas

Vaste SiC-gasdouchekop speelt een belangrijke rol bij het uniform maken van het gas in het CVD-proces, waardoor een uniforme verwarming van het substraat wordt gegarandeerd. VeTek Semiconductor is al vele jaren nauw betrokken op het gebied van massieve SiC-apparaten en kan klanten op maat gemaakte Solid SiC-gasdouchekoppen bieden. Wat uw wensen ook zijn, wij kijken uit naar uw aanvraag.

Lees verder Stuur onderzoek

Chemisch dampafzettingsproces Vaste SiC-randring

VeTek Semiconductor heeft zich altijd toegewijd aan onderzoek, ontwikkeling en productie van geavanceerde halfgeleidermaterialen. Tegenwoordig heeft VeTek Semiconductor grote vooruitgang geboekt op het gebied van massieve SiC-randringproducten en is het in staat klanten te voorzien van sterk op maat gemaakte massieve SiC-randringen. Stevige SiC-randringen zorgen voor een betere etsuniformiteit en nauwkeurige waferpositionering bij gebruik met een elektrostatische spantang, waardoor consistente en betrouwbare etsresultaten worden gegarandeerd. Ik kijk uit naar uw aanvraag en word elkaars langetermijnpartner.

Lees verder Stuur onderzoek

Massieve SiC-ets focusring

Solid SiC Etching Focusseringsring is een van de kerncomponenten van het waferetsproces, dat een rol speelt bij het fixeren van wafers, het focusseren van plasma en het verbeteren van de uniformiteit van waferetsen. Als toonaangevende fabrikant van SiC-focusringen in China beschikt VeTek Semiconductor over geavanceerde technologie en een volwassen proces, en produceert het Solid SiC-ets-focusring die volledig voldoet aan de behoeften van eindklanten volgens de eisen van de klant. We kijken uit naar uw aanvraag en worden elkaars langetermijnpartners.

Lees verder Stuur onderzoek

<...11 12 13 14 15 >