Fysische dampafzetting

Vetek Semiconductor is een Chinese fabrikant die geavanceerde halfgeleidermaterialen levert in Physical Vapour Deposition Process-achtigeSiC-gecoate smeltkroes, glazige koolstofsmeltkroes,Grafietverwarmers met SiC-coating,Elektronenbundelkanonverdampingskroezen.

Basisprincipes van het PVD-proces

Fysische dampafzettingsprocessen omvatten doorgaans een verscheidenheid aan specifieke methoden, zoals verdamping, sputteren en ionenplating. Ongeacht de gebruikte methode is het basisprincipe van Physical Vapour Deposition het verdampen van het materiaal vanaf de bron door verhitting op hoge temperatuur of ionenbombardement. Het verdampte materiaal beweegt in de vorm van atomen of moleculen in een vacuüm- of lagedrukomgeving en condenseert tot een dunne film op het oppervlak van het substraat. Dit proces wordt voornamelijk op fysieke wijze bereikt, waardoor de invloed van chemische reacties op de zuiverheid van het materiaal wordt vermeden.

Voordelen van Physical Vapour Deposition-technologie

Hoge zuiverheid en hoge dichtheid: PVD-afgezette films hebben meestal een hoge zuiverheid en dichtheid, wat de prestaties van de coating aanzienlijk kan verbeteren, zoals slijtvastheid, corrosieweerstand en hardheid.

Sterke filmhechting: Het PVD-proces kan een film vormen met een sterke hechting op het substraat, waardoor de film tijdens gebruik niet gemakkelijk loslaat, waardoor de levensduur van het product wordt verlengd.

Grote keuze aan materiaal: PVD-technologie kan worden toegepast op een verscheidenheid aan materialen, waaronder metalen, keramiek en legeringen, en kan verschillende functionele coatings bereiden, zoals geleidende, isolerende, hittebestendige en anti-oxidatiecoatings.

Milieubescherming en duurzaamheid: Vergeleken met processen zoals chemische dampdepositie (CVD) is het Physical Vapour Deposition (PVD)-proces milieuvriendelijker, er komen geen schadelijke gassen vrij en het vermindert de vervuiling van het milieu.

Toepassing van PVD-technologie

Halfgeleiderindustrie: Bij de productie van halfgeleiders wordt Physical Vapour Deposition vaak gebruikt bij de voorbereiding van dunne filmelektroden, diffusiebarrières en metalen verbindingen om ervoor te zorgen dat de componenten een goede geleidbaarheid en stabiliteit hebben.

Optische apparaten: Physical Vapour Deposition-technologie wordt veel gebruikt in optische coatings, zoals antireflectiecoatings voor spiegels en lenzen, en bij de vervaardiging van optische filters om de prestaties van optische apparaten te verbeteren.