ALD-receptor

Als professionalALD-ontvangerfabrikant in China, ons productALD-ontvangerDe nauwkeurige temperatuurregeling, uniforme gasverdeling en uitstekende thermische geleidbaarheid en andere producteigenschappen van het bedrijf bepalen datALD-ontvangerspeelt een cruciale rol in het atomaire laagdepositieproces (ALD). Belangrijke rol, welkom uw overleg.

Uniforme dunnefilmafzetting:ALD Susceptor zorgt voor een uniforme afzetting van atomaire lagen over het gehele wafeloppervlak tijdens het atomaire laagafzettingsproces (ALD). Dankzij het unieke roterende ontwerp kunnen gassen en reactanten gelijkmatig in contact komen met het wafeloppervlak, wat resulteert in een uniforme filmdikte. Dit is van cruciaal belang voor de productie van halfgeleiders met hoge precisie.

Verbeter de depositiekwaliteit: Door de temperatuurregeling en gasdistributie te optimaliseren, verbetert de ALD Susceptor de filmkwaliteit en -prestaties aanzienlijk, waardoor defecten en niet-uniformiteit worden verminderd. Dit maakt het ideaal voor de uiterst nauwkeurige productie van halfgeleiders en elektronische apparaten, waardoor de betrouwbaarheid en prestaties van het product worden gegarandeerd.

Ondersteunt verwerking van meerdere wafers:Bepaalde ALD Susceptor-ontwerpen maken het mogelijk om meerdere wafers tegelijkertijd te verwerken, waardoor de productie-efficiëntie toeneemt. Dit is vooral belangrijk voor productieomgevingen met een hoge verwerkingscapaciteit, die kunnen voldoen aan de behoeften van grootschalige productie.

Geschikt voor verschillende maten en soorten wafels:ALD Susceptors zijn over het algemeen ontworpen voor hoge compatibiliteit en kunnen verschillende maten en soorten wafers ondersteunen. Dit maakt het effectief in een verscheidenheid aan productieprocessen en biedt meer flexibiliteit en aanpassingsvermogen.

Verlaag de productiekosten:Dankzij de efficiënte gasdistributie en uniforme verwarmingsmogelijkheden verhoogt de ALD Susceptor de efficiëntie van het depositieproces, waardoor materiaalverspilling en productiekosten worden verminderd. Dit helpt niet alleen de productie-efficiëntie te verbeteren, maar verlaagt ook de productiekosten aanzienlijk.

Fysische basiseigenschappen van CVD SiC-coating:

Productie winkels:

Overzicht van de epitaxie-industrieketen van halfgeleiderchips：