SiC-coating Dekselsegmenten binnen

Bij VeTek Semiconductor zijn we gespecialiseerd in onderzoek, ontwikkeling en industrialisatie van CVD SiC-coating en CVD TaC-coating. Een voorbeeldproduct is de SiC Coating Cover Segments Inner, die een uitgebreide bewerking ondergaat om een zeer nauwkeurig en dicht gecoat CVD SiC-oppervlak te verkrijgen. Deze coating vertoont een uitzonderlijke weerstand tegen hoge temperaturen en biedt een robuuste corrosiebescherming. Neem gerust contact met ons op voor eventuele vragen.

Stuur onderzoek

Productomschrijving

Hoogwaardige SiC-coatingafdekkingssegmenten binnenin worden aangeboden door de Chinese fabrikant VeTek Semicondutor. Koop SiC-coatingafdekkingssegmenten (binnenkant) die direct van hoge kwaliteit zijn tegen een lage prijs.

VeTek Semiconductor SiC Coating Cover Segmenten (binnen) producten zijn essentiële componenten die worden gebruikt in geavanceerde halfgeleiderproductieprocessen voor het Aixtron MOCVD-systeem.

Hier is een geïntegreerde beschrijving waarin de toepassing en voordelen van het product worden benadrukt:

Onze 14x4-inch complete SiC-coating-afdekkingssegmenten (binnen) bieden de volgende voordelen en toepassingsscenario's bij gebruik in Aixtron-apparatuur:

Perfecte pasvorm: deze afdeksegmenten zijn nauwkeurig ontworpen en vervaardigd om naadloos op Aixtron-apparatuur te passen, waardoor stabiele en betrouwbare prestaties worden gegarandeerd.

Hoogzuiver materiaal: De dekselsegmenten zijn gemaakt van zeer zuivere materialen om te voldoen aan de strenge zuiverheidseisen van halfgeleiderproductieprocessen.

Weerstand tegen hoge temperaturen: De dekselsegmenten vertonen een uitstekende weerstand tegen hoge temperaturen, waardoor de stabiliteit behouden blijft zonder vervorming of schade onder procesomstandigheden bij hoge temperaturen.

Uitstekende chemische inertheid: Met uitzonderlijke chemische inertheid zijn deze afdeksegmenten bestand tegen chemische corrosie en oxidatie, waardoor ze een betrouwbare beschermende laag vormen en hun prestaties en levensduur verlengen.

Vlak oppervlak en nauwkeurige bewerking: De dekselsegmenten hebben een glad en uniform oppervlak, bereikt door nauwkeurige bewerking. Dit zorgt voor uitstekende compatibiliteit met andere componenten in Aixtron-apparatuur en zorgt voor optimale procesprestaties.

Door onze 14x4-inch Complete Inner Cover Segments in Aixtron-apparatuur op te nemen, kunnen hoogwaardige halfgeleider-dunne-filmgroeiprocessen worden bereikt. Deze afdeksegmenten spelen een cruciale rol bij het bieden van een stabiele en betrouwbare basis voor dunnefilmgroei.

We streven ernaar producten van hoge kwaliteit te leveren die naadloos integreren met Aixtron-apparatuur. Of het nu gaat om procesoptimalisatie of de ontwikkeling van nieuwe producten, wij staan klaar om technische ondersteuning te bieden en al uw vragen te beantwoorden.

Fysische basiseigenschappen van CVD SiC-coating:

Fysische basiseigenschappen van CVD SiC-coating
Eigendom	Typische waarde
Kristal structuur	FCC β-fase polykristallijn, voornamelijk (111) georiënteerd
Dikte	3,21 g/cm³
Hardheid	2500 Vickers-hardheid (500 g belasting)
Korrelgrootte	2~10μm
Chemische zuiverheid	99,99995%
Warmte capaciteit	640 J·kg-1·K-1
Sublimatie temperatuur	2700℃
Buigsterkte	415 MPa RT 4-punts
Young's Modulus	430 Gpa 4pt bocht, 1300℃
Warmtegeleiding	300W·m-1·K-1
Thermische uitzetting (CTE)	4,5 × 10-6K-1