Recept voor ALD-afzetting van atomaire lagen

Ruimtelijke ALD, ruimtelijk geïsoleerde afzetting van atomaire lagen. De wafel beweegt tussen verschillende posities en wordt op elke positie blootgesteld aan verschillende voorlopers. Onderstaande figuur is een vergelijking tussen traditionele ALD en ruimtelijk geïsoleerde ALD.

Tijdelijke ALD,tijdelijk geïsoleerde afzetting van atomaire lagen. De wafel wordt gefixeerd en de voorlopers worden afwisselend in de kamer geïntroduceerd en verwijderd. Deze methode kan de wafer in een meer evenwichtige omgeving verwerken, waardoor de resultaten verbeteren, zoals een betere controle over het bereik van kritische afmetingen. De onderstaande figuur is een schematisch diagram van temporale ALD.

Afsluiter, klep sluiten. Vaak gebruikt bij，recepten, gebruikt om de klep naar de vacuümpomp te sluiten, of de afsluiter naar de vacuümpomp te openen.

Voorloper, voorloper. Twee of meer, die elk de elementen van de gewenste afgezette film bevatten, worden afwisselend op het substraatoppervlak geadsorbeerd, met slechts één voorloper tegelijk, onafhankelijk van elkaar. Elke precursor verzadigt het substraatoppervlak om een ​​monolaag te vormen. De voorloper is te zien in de onderstaande figuur.

Zuivering, ook wel zuivering genoemd. Gemeenschappelijk zuiveringsgas, zuiveringsgas.Afzetting van atomaire lagenis een methode voor het afzetten van dunne films in atomaire lagen door achtereenvolgens twee of meer reactanten in een reactiekamer te plaatsen voor het vormen van een dunne film door de ontleding en adsorptie van elke reactant. Dat wil zeggen dat het eerste reactiegas op een gepulseerde wijze wordt toegevoerd om zich chemisch in de kamer af te zetten, en het fysiek gebonden resterende eerste reactiegas wordt verwijderd door spoelen. Vervolgens vormt het tweede reactiegas gedeeltelijk via het puls- en spoelproces ook een chemische binding met het eerste reactiegas, waardoor de gewenste film op het substraat wordt afgezet. De zuivering is te zien in de onderstaande afbeelding.

Fiets. Bij het afzettingsproces van atomaire lagen wordt de tijd waarin elk reactiegas één keer moet worden gepulseerd en gespoeld, een cyclus genoemd.

Epitaxie van de atomaire laag.Een andere term voor afzetting van atomaire lagen.

Trimethylaluminium, afgekort als TMA, trimethylaluminium. Bij atoomlaagdepositie wordt TMA vaak gebruikt als voorloper voor de vorming van Al2O3. Normaal gesproken vormen TMA en H2O Al2O3. Bovendien vormen TMA en O3 Al2O3. De onderstaande figuur is een schematisch diagram van de afzetting van Al2O3-atoomlagen, waarbij TMA en H2O als voorlopers worden gebruikt.

3-aminopropyltriethoxysilaan, ook wel APTES genoemd, 3-aminopropyltrimethoxysilaan. Inafzetting van atomaire lagenAPTES wordt vaak gebruikt als voorloper voor de vorming van SiO2. Normaal gesproken vormen APTES, O3 en H2O SiO2. De onderstaande figuur is een schematisch diagram van APTES.