Doorbraak in tantaalcarbidetechnologie, epitaxiale SiC-vervuiling verminderd met 75%?

Onlangs heeft het Duitse onderzoeksinstituut Fraunhofer IISB een doorbraak bereikt in het onderzoek en de ontwikkeling vantantaalcarbide coatingtechnologieen ontwikkelde een oplossing voor spuitcoating die flexibeler en milieuvriendelijker is dan de CVD-depositieoplossing, en die op de markt is gebracht.

En de binnenlandse vetek-halfgeleider heeft ook doorbraken op dit gebied geboekt, zie hieronder voor meer informatie.

Fraunhofer IISB:

Ontwikkeling van een nieuwe TaC-coatingtechnologie

Op 5 maart zou volgens de mediaSamengestelde halfgeleider", Fraunhofer IISB heeft een nieuwe ontwikkeldtantaalcarbide (TaC) coatingtechnologie-Taccotta. De technologielicentie is overgedragen aan Nippon Kornmeyer Carbon Group (NKCG) en NKCG is begonnen met het leveren van TaC-gecoate grafietonderdelen aan hun klanten.

De traditionele methode voor het produceren van TaC-coatings in de industrie is chemische dampdepositie (CVD), die nadelen met zich meebrengt zoals hoge productiekosten en lange levertijden. Bovendien is de CVD-methode ook gevoelig voor barsten van TaC tijdens herhaalde verwarming en koeling van componenten. Deze scheuren leggen het onderliggende grafiet bloot, dat in de loop van de tijd ernstig verslechtert en moet worden vervangen.

De innovatie van Taccotta is dat het gebruik maakt van een watergebaseerde spuitcoatingmethode gevolgd door een temperatuurbehandeling om een ​​TaC-coating te vormen met hoge mechanische stabiliteit en aanpasbare dikte op de ondergrond.grafiet substraat. De dikte van de coating kan worden aangepast van 20 micron tot 200 micron om aan verschillende toepassingsvereisten te voldoen.

De door Fraunhofer IISB ontwikkelde TaC-procestechnologie kan de vereiste coatingeigenschappen, zoals de dikte, aanpassen, zoals hieronder weergegeven, in het bereik van 35 μm tot 110 μm

Specifiek heeft Taccotta-spuitcoating ook de volgende belangrijke kenmerken en voordelen:

● Milieuvriendelijker: Met spuitcoating op waterbasis is deze methode milieuvriendelijker en gemakkelijk te industrialiseren;

● Flexibiliteit: Taccotta-technologie kan zich aanpassen aan componenten van verschillende afmetingen en geometrieën, waardoor gedeeltelijke coating en renovatie van componenten mogelijk is, wat niet mogelijk is bij CVD.

● Verminderde tantaalvervuiling: Grafietcomponenten met Taccotta-coating worden gebruikt bij de epitaxiale SiC-productie en de tantaalvervuiling wordt met 75% verminderd vergeleken met bestaandeCVD-coatings.

● Slijtvastheid: Uit krastesten blijkt dat het vergroten van de laagdikte de slijtvastheid aanzienlijk kan verbeteren.

Krastest

Naar verluidt is de technologie gepromoot voor commercialisering door NKCG, een joint venture die zich richt op het leveren van hoogwaardige grafietmaterialen en aanverwante producten. Ook in de toekomst zal NKCG blijven participeren in de ontwikkeling van de Taccotta-technologie. Het bedrijf is begonnen met het leveren van grafietcomponenten op basis van Taccotta-technologie aan zijn klanten.

Vetek Semiconductor bevordert de lokalisatie van TaC

Begin 2023 lanceerde vetek semiconductor een nieuwe generatieSiC-kristalgroeithermisch veld materiaal-poreus tantaalcarbide.

Volgens rapporten heeft Vetek Semiconductor een doorbraak gelanceerd in de ontwikkeling vanporeus tantaalcarbidemet grote porositeit door onafhankelijk technologisch onderzoek en ontwikkeling. De porositeit kan oplopen tot 75%, waarmee internationaal leiderschap wordt bereikt.