CVD TaC-coatingring

De CVD TaC-coatingring van VeTek Semiconductor is een zeer voordelig onderdeel dat is ontworpen om te voldoen aan de veeleisende eisen van siliciumcarbide (SiC)-kristalgroeiprocessen. De CVD TaC-coatingring biedt uitstekende weerstand tegen hoge temperaturen en chemische inertheid, waardoor het een ideale keuze is voor omgevingen die worden gekenmerkt door hoge temperaturen en corrosieve omstandigheden. We streven ernaar kwaliteitsproducten te leveren tegen concurrerende prijzen en kijken ernaar uit om uw partner voor de lange termijn te zijn in China.

Stuur onderzoek

Productomschrijving

De CVD TaC-coatingring van VeTek Semiconductor is een cruciaal onderdeel voor succesvolle monokristallijne groei van siliciumcarbide. Met zijn hoge temperatuurbestendigheid, chemische inertie en superieure prestaties garandeert het de productie van hoogwaardige kristallen met consistente resultaten. Vertrouw op onze innovatieve oplossingen om uw PVT-methode SiC-kristalgroeiprocessen te verbeteren en uitzonderlijke resultaten te bereiken.

Tijdens de groei van enkele kristallen van siliciumcarbide speelt de CVD TaC Coating Ring een cruciale rol bij het garanderen van optimale resultaten. De precieze afmetingen en de hoogwaardige TaC-coating maken een uniforme temperatuurverdeling mogelijk, waardoor thermische spanningen worden geminimaliseerd en de kristalkwaliteit wordt bevorderd. De superieure thermische geleidbaarheid van de TaC-coating vergemakkelijkt een efficiënte warmteafvoer, wat bijdraagt aan verbeterde groeisnelheden en verbeterde kristaleigenschappen. De robuuste constructie en uitstekende thermische stabiliteit zorgen voor betrouwbare prestaties en een langere levensduur, waardoor de noodzaak voor frequente vervangingen wordt verminderd en de productiestilstand wordt geminimaliseerd.

De chemische inertheid van de CVD TaC Coating Ring is essentieel bij het voorkomen van ongewenste reacties en contaminatie tijdens het SiC-kristalgroeiproces. Het biedt een beschermende barrière, waardoor de integriteit van het kristal behouden blijft en onzuiverheden worden geminimaliseerd. Dit draagt bij aan de productie van hoogwaardige, defectvrije enkele kristallen met uitstekende elektrische en optische eigenschappen.

Naast zijn uitzonderlijke prestaties is de CVD TaC Coating Ring ontworpen voor eenvoudige installatie en onderhoud. De compatibiliteit met bestaande apparatuur en naadloze integratie zorgen voor een gestroomlijnde werking en verhoogde productiviteit.

Reken op VeTek Semiconductor en onze CVD TaC-coatingring voor betrouwbare en efficiënte prestaties, waardoor u voorop loopt op het gebied van SiC-kristalgroeitechnologie.

PVT-methode SiC-kristalgroei:

SiC-kristalgroeioven:

Specificatie van de CVD TaC-coatingring:

Fysische eigenschappen van TaC-coating
Dikte	14,3 (g/cm³)
Specifieke emissiviteit	0.3
Thermische expansiecoëfficiënt	6.3 10-6/K
Hardheid (HK)	2000 Hongkong
Weerstand	1×10-5 Ohm*cm
Thermische stabiliteit	<2500℃
Grafietgrootte verandert	-10~-20um
Bekledingsdikte	≥20um typische waarde (35um±10um)