MOCVD LED Epi Susceptor

VeTek-halfgeleider'SMOCVD LED Epi Susceptoris een kerncomponent. Bij het voorbereidingsproces van halfgeleiderapparatenMOCVD LED Epi Susceptoris niet alleen een eenvoudig verwarmingsplatform, maar ook een precisieprocesinstrument, dat een diepgaande invloed heeft op de kwaliteit, groeisnelheid, uniformiteit en andere aspecten van dunne-filmmaterialen.

Het specifieke gebruik vanMOCVD LED Epi Susceptorin halfgeleiderverwerking zijn als volgt:

Substraatverwarming en uniformiteitscontrole:

MOCVD Epitaxy Susceptor wordt gebruikt om uniforme verwarming te bieden om een ​​stabiele temperatuur van het substraat tijdens epitaxiale groei te garanderen. Dit is essentieel voor het verkrijgen van halfgeleiderfilms van hoge kwaliteit en het garanderen van consistentie in dikte en kristalkwaliteit van epitaxiale lagen over het substraat.

Ondersteuning van reactorkamers voor chemische dampafzetting (CVD).:

Als belangrijk onderdeel van de CVD-reactor ondersteunt Susceptor de afzetting van metaalorganische verbindingen op substraten. Het helpt deze verbindingen nauwkeurig om te zetten in vaste films om de gewenste halfgeleidermaterialen te vormen.

Bevorderen van de gasdistributie:

Het ontwerp van Susceptor kan de stroomverdeling van gassen in de reactiekamer optimaliseren, waardoor ervoor wordt gezorgd dat het reactiegas gelijkmatig in contact komt met het substraat, waardoor de uniformiteit en kwaliteit van epitaxiale films wordt verbeterd.

U kunt er zeker van zijn dat u op maat kooptMOCVD LED Epi Susceptorvan ons, we kijken ernaar uit om met u samen te werken. Als u meer informatie wilt weten, kunt u ons onmiddellijk raadplegen en wij zullen u tijdig antwoorden!

Fysische basiseigenschappen van CVD SiC-coating:

Productie winkels:

Overzicht van de epitaxie-industrieketen van halfgeleiderchips：